2022年A股CVD概念股全梳理（8月15日）

股涨停为您整理的2022年CVD概念股，供大家参考。

1、德尔未来：8月12日消息，德尔未来8月12日主力净流出87.26万元，超大单净流入289.85万元，大单净流出377.11万元，散户净流出42.67万元。

在资产负债率方面，从2018年到2021年，分别为31.86%、43.04%、46.77%、53.52%。

控股子公司厦门烯成石墨烯科技有限公司是较早掌握石墨烯大单晶制备技术的企业，所生产的G-CVD石墨烯生长设备可以用于石墨烯大单晶制备。

2、昊华科技：资金流向数据方面，8月12日主力资金净流流出440.53万元，超大单资金净流出406.86万元，大单资金净流出33.66万元，散户资金净流入271.75万元。

昊华科技在资产负债率方面，从2018年到2021年，分别为41%、30.26%、34.79%、37.89%。

国内高纯六氟化硫龙头公司此前为天一科技，主营变压吸附气体分离技术及成套装置、催化剂产品、碳一化学及工程设计。2018年底中国昊华将旗下11家化工研究院注入上市公司体内，并更名昊华科技。2018全年及2019上半年，公司分别实现营收41.22.8亿元，同比分别增长15%、18%；分别实现归母净利5.2.57亿元，同比分别增长61%、6%。高纯SF6产品取代NF3用于CVD清洗工艺可有效降低成本，公司产品2006年就已达到5N级并逐步通过客户认证，当前已经达到5N5级，为国内高纯六氟化硫龙头。

3、北方华创：8月12日消息，北方华创8月12日主力资金净流出2.9亿元，超大单资金净流出2.31亿元，大单资金净流出5944.3万元，散户资金净流入2.39亿元。

在资产负债率方面，公司从2018年到2021年，分别为62.49%、55.59%、59.4%、44.62%。

国产设备龙头，在芯片国产化战略处领先地位；14nm等离子硅刻蚀机已交付客户，28nmHardmaskPVD、Al-PadPVD设备已率先进入国际供应链体系；在先进封装领域，PVD机台是全球前三CIS封装企业首选；用于12吋晶圆制造的刻蚀机、PVD等设备批量进入了国内主流集成电路生产线，部分产品成为了国内龙头芯片厂商的量产线Baseline机台；碳化硅（SiC）长晶炉、刻蚀机、PVD、PECVD等第三代半导体设备年内批量供应市场。

4、中微公司：8月12日该股主力资金净流出5908.65万元，超大单资金净流出2465.31万元，大单资金净流出3443.34万元，中单资金净流入1168.57万元，散户资金净流入4740.08万元。

公司在资产负债率方面，从2018年到2021年，分别为40.09%、21.43%、24.68%、16.69%。

推出专为高性能MiniLED量产而设计的PrismoUniMaxMOCVD设备，该设备在同一系统中可配备多达4个反应腔，可大幅提升产能并降低成本，并已收到来自国内客户的订单。

5、南大光电：8月12日消息，南大光电资金净流出2.34亿元，超大单资金净流出1.3亿元，换手率6.5%，成交金额12.58亿元。

在资产负债率方面，南大光电从2018年到2021年，分别为17.51%、37.95%、40.94%、42.98%。

江苏南大光电材料股份有限公司主要从事先进前驱体材料、电子特气、光刻胶及配套材料三类半导体材料产品生产、研发和销售，是MO源产业化生产的企业，也是全球主要的MO源生产商；公司主要产品有MO源产品、高纯ALD/CVD前驱体、高K三甲基铝、硅前驱体和OLED材料。

6、捷佳伟创：8月12日消息，捷佳伟创8月12日主力净流出1.51亿元，超大单净流出8937.82万元，大单净流出6148.65万元，散户净流入1.61亿元。

捷佳伟创在资产负债率方面，从2018年到2021年，分别为49.88%、61.66%、67.31%、51.47%。

国内领先的晶体硅太阳能电池生产设备供应商；主要产品为管式PECVD、管式高温扩散炉、单多晶制绒设备、单多晶清洗设备、硅芯硅料硅片清洗设备、等离子体刻蚀设备、链式湿法刻蚀设备、自动化设备等晶体硅太阳能电池生产工艺流程中的主要设备。

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